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高端光刻机了解下
作者:
未知
来源:
网络收集
整理日期:
2020-05-29
光刻机是在整个芯片产业链当中最核心的一个设备,也是技术最复杂最尖端的一个设备,因为光刻机技术非常复杂,所以目前我国并不具备制造高端光刻机的能力。
虽然目前我国有不少光刻机制造企业,但这些企业所能制造出的光刻机工艺制程都相对比较低,其中能够生产出最高制程的上海微电子,其生长并能量产的光刻机也只不过是90纳米,另外的45纳米还处于试验阶段。

而目前全球最强的光刻机生产企业ASML已经量产7nm光刻机,并垄断7nm纳米以上光刻机100%的市场。
按理来说,我国不具备生产7nm米以上的光刻机,但是我们可以通过进ASML设备来提高我国芯片的制造能力,但遗憾的是目前很多西方国家都对我国芯片进行技术封锁,他们不仅严禁向我国出口一些高端芯片,同时也禁止荷兰ASML向我国出口高端光刻机。
比如2018年中芯国际曾花1.2亿美元(这个价格相当于2018年中芯国际一年的利润)从荷兰ASML订购了一台EUV光客机,按照合同ASML应该在2019年底向中芯国际交货的,但是因为受到一些西方国家的阻挠,直到现在为止,ASML仍然没有完成交货。
由此可见,没有掌握光刻机核心技术对于我国来说是多么的被动,在高端芯片制造领域上,我国完全是被西方国家压制着,在很多领域我们都没有话语权。
而我国光刻机技术之所以没有取得突破,原因就是因为光刻机的技术太复杂,这里面涉及很多技术领域都属于行业内最顶尖的,而在很多零部件领域,我国技术跟西方一些国家的差距仍然非常大的。
目前一台高端的光刻机有上万个零部件构成(整机光刻机包含曝光系统(照明系统和投影物镜)、工件台掩模台系统、自动对准系统、调焦调平测量系统、掩模传输系统、硅片传输系统、环境控制系统、整机框架及减振系统、整机控制系统、整机软件系统等)
这些零部件有很多都是定制的,甚至有一些零部件都需要工程师经过机械慢慢打磨出来。
在这些零部件当中技术难度最大的就是光源、镜头、淹模板、能量控制器以及控制台。
比如比如镜头必须要求纯度非常高,它是利用透镜的光学原理,将掩膜版上的电路图按比例缩小,再用光源映射的硅片上,光在多次投射中会产生光学误差,在这个过程中要控制这个误差,所以精度要求非常高。
再比如光源,光刻机需要体积小、功率高、稳定性强的光源,为了提供这样的光源,就必须质量很好的能量控制器,电源要稳定、功率要足够大,否则光源发生器没办法稳定工作。
正因为技术非常高,所以目前连ASML本身有很多零部件他们自己也无法生产,很多高端零部件都是从美国、德国、日本等国家进口的,比如目前ASML的镜头是由德国的蔡司提供,电源是由美国的一家公司提供。
当然,光刻机技术到底有多难,单纯从这些描述可能大家没法理解,我们可以借用美国一个工程师曾经说过的一句话来形容,
曾经有一位美国工程师是这样评价光刻机的,他说:“光刻机的一个小零件,工程师就需要调整高达十年之久,就连尺寸的调整就要高达百万次以上。
由此可见,作为目前地球上最顶尖的设备之一,光刻机技术不是一时半载就能够制造出来的,它的制造需要有长时间的技术积累和沉淀,同时需要有多个国家和企业的共同合作才有可能完整。
而目前西方一些国家不仅在光刻机整机上对我进行技术封锁,甚至连跟光各级有关的一些零部件也对我国进行技术封锁,也正因为如此,光刻机很多核心零部件我们都必须自己去研究,这些核心零部件的研究有可能需要反反复复的实验,本可能需要几万次几十万次,甚至上百万字的打磨才有可能验证成功。
也正因为如此,所以我国光刻机的研发进度相对来说是比较慢的,这也导致我国目前光刻机跟荷兰的ASML有很大的差距。
虽然最近几年我国也加大对光刻机的研发力度,而且也取得了一些喜人的成果,目前包括清华大学、武汉光电研究所等一些研究团队都取得了一些喜人的研究成果,但是光刻机是一个复杂的工程,短期之内不是靠一两个研究的够就能够研究出高端光刻机的。获得更多 -> 电脑知识 -> 硬件知识
虽然目前我国有不少光刻机制造企业,但这些企业所能制造出的光刻机工艺制程都相对比较低,其中能够生产出最高制程的上海微电子,其生长并能量产的光刻机也只不过是90纳米,另外的45纳米还处于试验阶段。

而目前全球最强的光刻机生产企业ASML已经量产7nm光刻机,并垄断7nm纳米以上光刻机100%的市场。
按理来说,我国不具备生产7nm米以上的光刻机,但是我们可以通过进ASML设备来提高我国芯片的制造能力,但遗憾的是目前很多西方国家都对我国芯片进行技术封锁,他们不仅严禁向我国出口一些高端芯片,同时也禁止荷兰ASML向我国出口高端光刻机。
比如2018年中芯国际曾花1.2亿美元(这个价格相当于2018年中芯国际一年的利润)从荷兰ASML订购了一台EUV光客机,按照合同ASML应该在2019年底向中芯国际交货的,但是因为受到一些西方国家的阻挠,直到现在为止,ASML仍然没有完成交货。
由此可见,没有掌握光刻机核心技术对于我国来说是多么的被动,在高端芯片制造领域上,我国完全是被西方国家压制着,在很多领域我们都没有话语权。
而我国光刻机技术之所以没有取得突破,原因就是因为光刻机的技术太复杂,这里面涉及很多技术领域都属于行业内最顶尖的,而在很多零部件领域,我国技术跟西方一些国家的差距仍然非常大的。
目前一台高端的光刻机有上万个零部件构成(整机光刻机包含曝光系统(照明系统和投影物镜)、工件台掩模台系统、自动对准系统、调焦调平测量系统、掩模传输系统、硅片传输系统、环境控制系统、整机框架及减振系统、整机控制系统、整机软件系统等)
这些零部件有很多都是定制的,甚至有一些零部件都需要工程师经过机械慢慢打磨出来。
在这些零部件当中技术难度最大的就是光源、镜头、淹模板、能量控制器以及控制台。
比如比如镜头必须要求纯度非常高,它是利用透镜的光学原理,将掩膜版上的电路图按比例缩小,再用光源映射的硅片上,光在多次投射中会产生光学误差,在这个过程中要控制这个误差,所以精度要求非常高。
再比如光源,光刻机需要体积小、功率高、稳定性强的光源,为了提供这样的光源,就必须质量很好的能量控制器,电源要稳定、功率要足够大,否则光源发生器没办法稳定工作。
正因为技术非常高,所以目前连ASML本身有很多零部件他们自己也无法生产,很多高端零部件都是从美国、德国、日本等国家进口的,比如目前ASML的镜头是由德国的蔡司提供,电源是由美国的一家公司提供。
当然,光刻机技术到底有多难,单纯从这些描述可能大家没法理解,我们可以借用美国一个工程师曾经说过的一句话来形容,
曾经有一位美国工程师是这样评价光刻机的,他说:“光刻机的一个小零件,工程师就需要调整高达十年之久,就连尺寸的调整就要高达百万次以上。
由此可见,作为目前地球上最顶尖的设备之一,光刻机技术不是一时半载就能够制造出来的,它的制造需要有长时间的技术积累和沉淀,同时需要有多个国家和企业的共同合作才有可能完整。
而目前西方一些国家不仅在光刻机整机上对我进行技术封锁,甚至连跟光各级有关的一些零部件也对我国进行技术封锁,也正因为如此,光刻机很多核心零部件我们都必须自己去研究,这些核心零部件的研究有可能需要反反复复的实验,本可能需要几万次几十万次,甚至上百万字的打磨才有可能验证成功。
也正因为如此,所以我国光刻机的研发进度相对来说是比较慢的,这也导致我国目前光刻机跟荷兰的ASML有很大的差距。
虽然最近几年我国也加大对光刻机的研发力度,而且也取得了一些喜人的成果,目前包括清华大学、武汉光电研究所等一些研究团队都取得了一些喜人的研究成果,但是光刻机是一个复杂的工程,短期之内不是靠一两个研究的够就能够研究出高端光刻机的。获得更多 -> 电脑知识 -> 硬件知识
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